打破日美垄断 国产ArF光刻胶取得重大突破:可用于7nm工艺
作为半导体卡脖子的技术之一,很多人只知道光刻机,却不知道光刻胶的重要性,这个市场也是被日本及美国公司垄断,TOP5厂商占了全球85%的份额。
国产光刻胶此前只能用于低端工艺生产线中,能做到G 线(436nm)、I 线 (365nm)水平,目前主要在用的ArF光刻胶还是靠进口,EUV光刻胶目前还没有公司能生产,基本上都控制在日本公司手中。
不过EUV光刻胶也不是急需的,因为国内目前还没有EUV工艺量产,193nm的ArF光刻胶更加重要,目前国内有多家公司正在攻关中,这种光刻胶可以用于28nm到7nm工艺的先进工艺。
今天,南大光电在互动平台表示,公司的ArF光刻胶正在按计划进行客户测试,这意味着国内的ArF光刻胶技术取得了重要突破,从研发开始走向生产。
根据南大光电公司之前的 消息,公司于2017年开始研发“193nm 光刻胶项目”,已获得国家“02专项”的相关项目立项,公司计划通过3年的建设、投产及实现销售,达到年产25吨193nm(ArF干式和浸没式)光刻胶产品的生产规模,产品将满足集成电路行业需求标准。
来源: 快科技
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国产光刻胶此前只能用于低端工艺生产线中,能做到G 线(436nm)、I 线 (365nm)水平,目前主要在用的ArF光刻胶还是靠进口,EUV光刻胶目前还没有公司能生产,基本上都控制在日本公司手中。
不过EUV光刻胶也不是急需的,因为国内目前还没有EUV工艺量产,193nm的ArF光刻胶更加重要,目前国内有多家公司正在攻关中,这种光刻胶可以用于28nm到7nm工艺的先进工艺。
今天,南大光电在互动平台表示,公司的ArF光刻胶正在按计划进行客户测试,这意味着国内的ArF光刻胶技术取得了重要突破,从研发开始走向生产。
根据南大光电公司之前的 消息,公司于2017年开始研发“193nm 光刻胶项目”,已获得国家“02专项”的相关项目立项,公司计划通过3年的建设、投产及实现销售,达到年产25吨193nm(ArF干式和浸没式)光刻胶产品的生产规模,产品将满足集成电路行业需求标准。
来源: 快科技
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加油
具体细分,涉及的方面还有很多,加油
加油
好消息!
不错的消息,加油
兔子现在是全线烧钱奋进。。。。
今天,南大光电在互动平台表示,公司的ArF光刻胶正在按计划进行客户测试,这意味着国内的ArF光刻胶技术取得了重要突破,从研发开始走向生产。
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这不是割韭菜的前奏?
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这不是割韭菜的前奏?
这个强,南大光电还是不错的。
可喜可贺 不过光这个突破了 也不够啊
300346?
先量产再说吧:P
加油
努力向前,,:hug:
关键词:可
艰苦奋斗
本帖最后由 pan026854 于 2020-5-26 11:56 编辑
拭目以待,别再吹牛逼和骗政府补贴了
拭目以待,别再吹牛逼和骗政府补贴了
看来不只是黑华为啊,只要是点可能会好的消息都会被论坛的黑子黑个底朝天。
非典型胖子 发表于 2020-5-26 14:46 static/image/common/back.gif
看来不只是黑华为啊,只要是点可能会好的消息都会被论坛的黑子黑个底朝天。
没办法,这就是傻卢的人生:lol
看来不只是黑华为啊,只要是点可能会好的消息都会被论坛的黑子黑个底朝天。
没办法,这就是傻卢的人生:lol
非典型胖子 发表于 2020-5-26 14:46
看来不只是黑华为啊,只要是点可能会好的消息都会被论坛的黑子黑个底朝天。
害怕中国强大被,不过这个趋势无法逆转,不可能永远做组装活。
看来不只是黑华为啊,只要是点可能会好的消息都会被论坛的黑子黑个底朝天。
害怕中国强大被,不过这个趋势无法逆转,不可能永远做组装活。
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