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标题: 我国新一代光刻机模型亮相 [查看完整版帖子] [打印本页]

时间: 2026-11-9 09:49

作者: coffee198375 标题: 我国新一代光刻机模型亮相

11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海举行。会上，一系列重磅科技亮相。

上海微电子装备集团（简称“SMEE”）携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800（模型）亮相中国馆，展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。

SMEE表示，本次展出的模型采用透明剖视设计，直观呈现整机光学光路与内部机电系统的链路布局。该平台为国产标准化前道光刻装备架构，适配I-line、KrF两类主流技术路线，整机核心的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统均实现全链条自主可控，具备稳定的工艺适配能力与产线运行可靠性。

据悉，目前国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度、生产效率紧密追赶国际标杆。在售的SSC800系列KrF与SSB800系列I-line机型，基于自研双工件台平台，均搭载国产自主大NA物镜，关键曝光成像指标对标国际标杆。SSC800整体性能跻身行业第一梯队。

基于全栈自主可控技术底座，关键零部件国产化率突破90%，已实现定型与规模化量产，填补国内空白。多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行，累计支持产线流片超千万片，设备有效运行率超92%。

SMEE成立于2002年，是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商，也是我国前道光刻装备自主供给体系的核心支撑主体，业务覆盖核心光刻装备的设计研发、生产制造、市场销售与全流程技术服务。公司始终锚定产业技术前沿，坚持自主创新深耕与产业链协同联动并行，与上下游供应链、行业伙伴深度协作，携手构建开放良性的半导体产业生态，在实现自身稳健运营的同时，持续为我国半导体产业高质量升级提供核心装备支撑。

时间: 2026-11-9 09:49

作者: coffee198375

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时间: 2026-11-9 10:35

作者: ilongge

时间: 2026-11-9 10:59

作者: PH值 标题: 重大突破！我国新一代光刻机模型亮相

EETOP

11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海举行。会上，一系列重磅科技亮相。

SMEE官网显示：

lSSB800（I-line）系列扫描投影光刻机致力于覆盖280nm及以上的典型光刻制程。设备以高产率与强工艺适应性为核心价值，为半导体产业提供稳健的基础工艺保障。其应用范围广泛覆盖了功率半导体、模拟集成电路、微机电系统（MEMS）等成熟制程制造领域，是实现大规模、高稳定性生产的理想选择。
lSSC800（KrF）系列扫描投影光刻机针对110nm及以上的精细化制程需求提供进阶解决方案。该系列通过对曝光精度、畸变控制及套刻性能的全面升级，实现了更高的工艺维度。设备重点服务于AI高性能计算、高密度存储（DRAM/NAND Flash）、微处理器以及Micro LED等前沿制程领域，助力客户攻克更高精度的芯片制造难题。

本次展出的模型采用透明剖视设计，直观呈现整机光学光路与内部机电系统的链路布局。该平台为国产标准化前道光刻装备架构，适配I-line、KrF两类主流技术路线，整机核心的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统均实现全链条自主可控，具备稳定的工艺适配能力与产线运行可靠性。目前国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度、生产效率紧密追赶国际标杆；多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行，累计支持产线流片超千万片，设备有效运行率超92%，形成自主技术可控、国产替代落地、产业链安全可靠的核心优势，可全面支撑半导体、泛半导体产业发展需求。

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时间: 2026-11-9 11:38

作者: hcf013502

时间: 2026-11-9 11:39

作者: hcf013502

中国有望成为地球上第一个全品类自主可控国家

时间: 2026-11-9 12:25

作者: flixyz

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时间: 2026-11-9 20:08

作者: 山茶树叶

啥时候浸润式的大大方方展示出来

时间: 2026-11-9 20:42

作者: lcq99

时间: 2026-11-9 20:45

作者: h200hh

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