[其他厂商] TRCX：掺杂过程分析 [复制链接]

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发表于 2021-12-30 09:20:04 |只看该作者 |倒序浏览

在 LTPS 制造过程中，使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时，应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容，并分析有源层离子注入前后的电位分布，如下图所示。

(a)FIB

(b) 掺杂前后对比

GMT+8, 2024-5-16 12:49 , Processed in 0.081917 second(s), 18 queries , Gzip On.

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