俄罗斯造出150nm光刻机！

PH值

21ic电子网

当地时间7月20日，俄罗斯科技行业媒体CNews报道，俄罗斯绿城纳米技术中心（ZNTC）成功建成一套电子束光刻设备，设计标准为150纳米。目前样机已正式进入为期四个月的全流程综合性能测试阶段。

150纳米制程大致对应20年前英特尔奔腾4的性能水平。

报道截图

这个项目属于俄罗斯国家计划科学技术发展框架下的重点研发任务，代号为Progress ELL 150。核心目标是打破海外光刻设备垄断，构建本土化半导体微纳加工体系。

本次设备曝光也不是突然官宣，最早线索源自2026年6月俄罗斯公开的政府采购运输招标文件，文件明确公示将承运自研150纳米电子束光刻试验样机。

据文件显示，绿城纳米技术中心正在为交付“设计规范150纳米的电子束光刻设备样机”寻找承运方，该项工作属试验设计工作（ОКР），代号为“Progress ELL 150”。发运地为绿城，目的地未公开。但绿城纳米技术中心总经理阿纳托利·科瓦廖夫表示，该设备将运往距绿城约2000公里处。

科瓦廖夫介绍说：“目前两台样机正在进行综合试验，试验将持续约四个月。之后将开始图像精度及其他工艺参数方面的试验。”

该设备的关键特点是无掩模光刻。与通过光掩模转移图形的光学光刻不同，电子束光刻借助聚焦电子束直接在衬底上形成图像。这样既可以制作光掩模，也可以在硅及其他衬底上不使用掩模直接成图，对试产批次、原型样机和专用芯片的生产至关重要。

与大众熟知的商用光学光刻机不同，该设备核心定位并非消费级芯片的大规模量产。

其核心用途集中在三大领域：

一是高精度光掩模的自研制造，解决俄罗斯半导体产业掩模依赖进口的痛点；

二是特种芯片、新型微纳器件的原型研发与工艺验证，适配前沿半导体技术迭代需求；

三是军工、航天、工业控制等领域小批量、高可靠性专用芯片的定制化生产，精准匹配俄罗斯高端特种半导体的应用需求。

针对本次技术突破，业内专业人士作出清晰技术界定：该设备属于科研级、小批量加工的电子束光刻设备，和台积电、中芯国际等企业用于大规模量产的光学光刻机存在本质区别。电子束光刻优势在于无需开模、灵活度高、精度稳定，适合研发和小众定制生产，但曝光效率极低，无法满足消费电子芯片大批量、低成本的量产需求，因此不会直接改变全球成熟制程芯片量产格局。

按照测试规划，两台原型机将同步开展稳定性、成像精度、工艺适配性等多项严苛测试，其中一台样机后续将转运至异地专业实验室完成交叉验证，全部测试周期为期四个月。测试通过后，该设备将完成工艺定型，正式投入本土半导体研发与特种芯片生产体系。

图源：CNews报道配图

绿城纳米技术中心是俄罗斯微电子及其生产设备的研发与制造商。

绿城纳米技术中心还研制过350纳米的光学光刻机，并已移交给“行业解决方案”公司（Отраслевые решения，隶属Element集团）。在2025年9月的“微电子2025”论坛上，绿城纳米技术中心总经理阿纳托利·科瓦廖夫表示，已形成扎实基础，可以着手研制完全国产化的90纳米设备。目前则在推进130纳米设备的工作。