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标题: 日本TEL社长赴台积电赔罪! [查看完整版帖子] [打印本页]
时间: 2025-9-10 23:02
作者: flygen
标题: 日本TEL社长赴台积电赔罪!
9月10日消息,日本TEL公司社长河合利树抵达中国台湾,密会台积电董事长魏哲家,疑为2nm泄密案“向台积电赔罪”!
据报道,2025年SEMICON Taiwan国际半导体展今日于台北南港展览馆一、二馆正式开幕,吸引全球产业目光。不过,外界关注的焦点之一,落在东京威力科创(TEL)社长兼执行长河合利树的缺席。
据了解,河合昨日下午缺席展会活动,转而前往新竹与台积电董事长暨总裁魏哲家进行闭门会晤,为先前爆发的2nm技术泄密事件亲自道歉,并提出后续善后对策。
据报导,TEL是全球半导体设备的主要供货商,台湾地区为其关键市场,台积电更是其重要客户。
知情人士透露,河合利树此行主要目的是向台积电表达歉意,针对TEL前陈姓工程师涉嫌泄露台积电2nm技术机密一事,亲自向魏哲家致歉,并提出公司如何善后的初步构想。由于双方为闭门会谈,具体内容尚不对外公开,目前仍待TEL方面进一步说明。
据之前报道,台积电 2nm 芯片技术外泄事件涉案 3 人被检方起诉,分别被要求判处14年、9年和7年徒刑。
涉案的主要嫌疑人陈姓男子曾任台积电工程师,熟悉公司严格的保密制度与供应商保密协议。离职后,他加入日本半导体设备龙头 TEL 公司,并利用旧同事关系,多次索取 2 纳米蚀刻站相关机密文件和数据,将其拍摄、复制,用于帮助 TEL 公司改进设备性能。国芯网
时间: 2025-9-10 23:09
作者: axuan
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时间: 2025-9-11 08:41
作者: 不吹不黑
axuan 发表于 2025-09-10 23:09:36
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是他是他还是他
时间: 2025-9-11 08:41
作者: 不吹不黑
来真的了
时间: 2025-9-11 16:56
作者: coffee198375
莫名喜感。。。。
时间: 2025-9-11 17:22
作者: jack1738
这个属于违法吧,一个谢罪能解决吗
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