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发表于 2021-2-3 09:54:41 |只看该作者 |倒序浏览

近期有一个好消息传来,中国的芯片制造“新技术”被曝出,国产芯片终于迎来了曙光。


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光刻机的难度




中国的这个新技术就是冰刻技术,而传统的光刻技术中所使用的则是光刻胶,光刻胶使用的好坏甚至直接决定着这芯片制作出来的好坏,所以说这个光刻胶的涂抹过程是非常难的,做一个比较形象的比喻,我们把晶片比作木板,这个木板必须不能太大也不能太小,因为我们需要把胶水涂抹在这块木板上。


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涂抹的时候一定要将胶水给涂平整,不能涂的不均匀,而木板太小的话,就会很容易造成涂抹不匀的状况。然后涂抹好了之后,再利用光源对这个木板进行光刻,因为这个光刻胶对光源很敏感,所以它就能在这木板上将电路照射到晶片上,最后就会形成芯片,可以说这光刻技术是非常难得一件事情,而我国在这一方面研究成果一直都不是很大,所以我国一般都会采取直接购买光刻机的方式来制作芯片,可美国这一封锁,无疑是一下子就掐住了我们的喉咙。


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中国新技术“冰刻”技术


可中国的科学家没有就此放弃,他们想着既然光刻机这么难搞,那我们就干脆换一种方式来制作芯片。所以西湖大学的副校长仇旻教授就想着如果把光刻胶换成其他的物质不知道可不可行,于是他就朝着这个思路做了很多的研究,最后他发现“水”这种物质就可以,只要把水凝结成冰,那它的作用可比光刻胶还要厉害。冰刻的做法需要在零下100多度的真空环境里进行,到时候的水就能形成一种冰层,并且由于水是无形的物质,所以它可以更好的覆盖晶体,并且还比光刻胶来得更好涂均匀。


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这一发现让我们国家的人都很兴奋,因为如果这个冰刻技术真的做成的话,那么我们就很有可能实现弯道超车了,到时候美国的技术封锁对我们来说也就没有了任何的价值。但这个冰刻技术是非常前沿的技术,所以研究这方面技术的专业人员非常少,就目前所知的也就两个国家在做这样的事情。


一个当然就是我们中国仇旻教授团队在做这方面的研究,而令一个就是丹麦的团队。仇旻教授其实在9年前就开始这方面的研究,并且还广招这方面的人才与他一起进行研究,于是通过他们这么多年的不断努力,冰刻技术现在终于有了新的突破,这意味着我们离脱离光刻机又进了一步。


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但由于冰刻技术我们现在也只是有了一个基础的雏形,未来可能还需要很长的一段时间去成长,所以现阶段我们也不能放弃对光刻机的研究。不过也得感谢美国对我们国家的技术封锁,没有他们的这一出,我们也不会这么快的就在芯片制造技术上有了这么大的进步,这也正如华为创始人任正非所说的,美国的技术就像那高山上的冰雪,它化了往山下流了一点,我们才有水喝,如果它哪天不往下流了,那人们就会另找出路了。



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