不吹不黑，谈谈中国光刻机14纳米的进度

yonica

先说台积电的历史，大约2011年刚开始做出来28纳米，2年后量产成熟；2015年实现14/16纳米量产。三星，也是2015年14/16纳米量产。
台积电从28纳米以及14纳米和7纳米的经验教训，可以缩短我们的进化时间。

中国大陆的中芯国际，全部洋枪洋炮，用的ASML光刻机，在2019年实现的14纳米量产。

我们国产的光刻机分两种：

1，上海微电子，造28纳米芯片的光刻机，在今年，2021年会交货，2022年能在芯片厂达成量产。这个不能完全“去美”化。估计，其进化到14纳米，还得2-3年，也就是2024-2025年。（不叫28纳米光刻机，而是193纳米的光源，配合各种处理手续，可以造65n纳米、40纳米、28纳米等各种制程芯片）

2，华虹旗下的上海集成电路研发中心（ICRD），就是完全“去美”化的28纳米光刻机，估计是2024年交货，2025-2026年能在芯片厂达成28纳米量产。但进化到14纳米量产，得要等到2028年。

yonica

通信技术你问我答 (积分兑奖)

电子信息所温晓君釆访，说14纳米的芯片，要在2022年研制出来，可能就是指的上海微电子的光刻机，其实，还不能马上量产，有些过于乐观了。


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略微修正和明确解释：

1，上海微电子，造28纳米芯片的光刻机，在今年，2021年会交货，2022年能在芯片厂达成量产。这个不能完全“去美”化。估计，其进化到14纳米，还得2-3年，也就是2024-2025年能够14纳米量产。（不叫28纳米光刻机，而是193纳米的光源，配合各种处理手续，可以造65n纳米、40纳米、28纳米等各种制程芯片）

2，华虹旗下的上海集成电路研发中心（ICRD），就是完全“去美”化的28纳米光刻机，估计是2024年交货，2025-2026年能在芯片厂达成28纳米量产。但进化到，完全“去美”化的14纳米量产，得要等到2027-2028年。


DUV是指 193nm波长的那批光刻机，分干式和液浸式。基本上液浸式一次曝光可以搞定45-28的工艺，再往下，例如14纳米和7纳米，是依然用这种光刻机的采取多重曝光技术实现。台积电和三星，用DUV生产14纳米7纳米，都是如此手段。

分两个阶段，还是有机会的。确实有不少差距，但差距没有那么巨大，一旦稳定地突破，就是摧枯拉朽般的巨变。

重点：这里说的只是DUV，不是EUV。关于EUV的，见 69# 和 70#楼层。

sq58622

估计5年后28nm能商用化，能给海思用的

yonica

mryuri 发表于 2021-6-25 20:56
鉴于你对星链的唱衰和苹果M1芯片的悲观鉴定。我认为你是技术悲观者。
由此推导出。时间节点肯定早于你的预 ...

苹果M1和M2芯片的现状，证明了我说的没错。一堆bug还是没解决。

至于，星链，也说的没错。

大头you

大家都来发预测吧，最后看看谁准。

家园会员

华为中兴最强 发表于 2021-6-25 21:05
就我所了解的信息 中国的光刻机不论是28纳米还是14纳米  远超美国  荷兰更别提了

7nm也快超荷兰日本了

yonica

DUV是指 193nm波长的那批光刻机，分干式和液浸式。基本上液浸式一次曝光可以搞定45-28的工艺，再往下，例如14纳米7纳米，要用多重曝光技术。

undebug25

mryuri 发表于 2021-6-25 20:56
鉴于你对星链的唱衰和苹果M1芯片的悲观鉴定。我认为你是技术悲观者。
由此推导出。时间节点肯定早于你的预 ...

不是技术悲观主义者，实际是不懂技术，技术都是演进的，有问题就解决吗？路都是慢慢走出来的

客家人

  3年后能搞定28nm全产业链就很不错了，饭要一口一口吃，半导体又不光是光刻机，几百道工序。

yonica

undebug25 发表于 2021-6-25 22:30
不是技术悲观主义者，实际是不懂技术，技术都是演进的，有问题就解决吗？路都是慢慢走出来的

亩产万斤？

xianghui

yonica 发表于 2021-6-25 22:41
亩产万斤？

芯片行业还有一个大问题，现在是景区周期，但不是常态，过去20年的常态是产能过剩，激烈的价格竞争和投资竞赛造就的行业格局是头部通杀，小厂没法生存

yonica

xianghui 发表于 2021-6-26 06:22
芯片行业还有一个大问题，现在是景区周期，但不是常态，过去20年的常态是产能过剩，激烈的价格竞争和投资 ...

任何一个高科技行业，当其技术发展的加速度变慢时，就是中国超越的机会。我个人。还是很看好中国光刻机及整个芯片行业的崛起。

undebug25

yonica 发表于 2021-6-25 22:41
亩产万斤？

呵呵，你就这样一直杠下去，不要停！