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发表于 2026-7-28 12:48:49 来自手机 |只看该作者 |倒序浏览
【7月27日,据美国科技媒体《The Information》报道,一家中国国资背景的公司已正式开始量产芯片制造核心设备——浸润式深紫外(DUV)光刻机,这是中国在减少对海外芯片制造设备依赖进程中取得的一项关键进展。

据知情人士透露,国产光刻机设备预计将在今年内交付给中国主要晶片制造商。该设备是台积电等全球主要芯片制造商在生产中广泛采用的核心装备之一】

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