SK海力士：将积极为中国工厂引进EUV光刻机目前进展良好 [复制链接]

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发表于 2021-11-25 08:46:05 |只看该作者 |倒序浏览

众所周知，由于某些原因，ASML最先进的EUV光刻机无法进入中国内地，甚至一些海外厂商换下来的旧设备也很难进入内地。

此前路透社援引知情人士的话报道称，韩国企业SK海力士无锡工厂的升级改造计划遇阻，仅仅是因为阿斯麦的极紫外光刻机无法获批进入中国大陆，虽然 SK 海力士十分希望通过该设备提高存储芯片的生产效率。

据多个外媒报道，SK 海力士 CEO 李锡熙（Seok-hee Lee）对此进行了回应，并就无锡海力士半导体工厂的相关情况进行了沟通。

22 日上午，李锡熙社长在首尔三成洞 COEX 举办的‘第 14 届半导体日’活动上会见记者时表示：“我们可以通过合作很好地应对。”

他认为，SK 海力士有足够的时间将 EUV 设备进口到中国。李锡熙对于引进受限一事表示：正与美方合作，目前进展良好。EUV 光刻技术已经在韩国本土的 DRAM 产线上应用，中国工厂还有充足的时间供斡旋沟通。

当被问及此时是否会影响无锡工厂正常工作时，他表示，“1a DRAM 已于 7 月在总部开始量产”“中国工厂还有很多时间”。