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发表于 2022-12-9 18:44:46 来自手机 |只看该作者 |倒序浏览
据路透社报道-彭博新闻社周四援引熟悉此事的人士的话报道,荷兰计划对出口到中国的芯片制造设备进行新的控制,并且可能在下个月宣布一项交易。

荷兰公司ASML是全球光刻机领头羊,去年对中国客户的销售额超过20亿欧元(21亿美元)。美荷这次谈判的光刻机输出节点主要就是针对以下这两个类型(EUV因使用美国cymer 光源,美方一直不同意,所以EUV光刻机不需要谈)。
193nm ArF dry对应的芯片工艺是130~65nm。
193nm ArF+immersion对应的芯片工艺则是45~7nm。
美国希望asml禁止193nm ArF的两种型号光刻机,而荷兰则希望向美国争取193nm ArF dry可以向大陆销售,只禁止浸没式光刻机即可。

目前的结果基本底定,美荷达成一致,依照美国bis10/7对华新规,16nm以下finfet、gaa工艺的设备全部禁止,也就是说193nmArF dry 不禁止,荷兰与美国同步,因浸没式光刻机涉及16nm以下,所以禁止对华销售。这将代表未来,大陆在未经许可下没办法得到45nm~7nm的光刻机。这就是这次美荷谈判的最终结果美国的的意图很明显,就是要终止中方45nm以下芯片生产,让大陆庞大的芯片需求全部转向西方下单,这是一步大招,短期之内(至少5年)要实现这样,看来我们只有靠自己的光刻机了。

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