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  中校

注册:2016-3-7196
发表于 2023-9-19 09:41:02 |显示全部楼层
近期,各大视频平台疯传一条消息
称清华大学EUV项目
把ASML的光刻机巨大化
实现了光刻机国产化
并表示这个项目已经在雄安新区落地
还在视频中配了这样一张图
表示图片中的项目就是光刻厂
⬇⬇⬇

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该项目是国产光刻机工厂?
NO!
这是北京高能同步辐射光源项目(HEPS)!


关于
北京高能同步辐射光源
HEPS坐落于北京怀柔雁栖湖畔
是国家“十三五”重大科技基础设施
它是我国第一台高能量同步辐射光源
也是世界上亮度最高的
第四代同步辐射光源之一
早在2019年就开始建设
将于2025年底投入使用

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△北京高能同步辐射光源项目实拍图

HEPS是干嘛用的呢?
它的作用是通过加速器
将电子束加速到6GeV
然后注入周长1360米的储存环
用接近光速的速度保持运转
电子束在储存环的不同位置
通过弯转磁铁或者各种插入件时
就会沿着偏转轨道切线的方向
释放出稳定、高能量、高亮度的光
也就是同步辐射光

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简单的说
HEPS可以看成是一个
超精密、超高速、具有强大穿透力的
巨型X光机
它产生的小光束
可以穿透物质、深入内部进行立体扫描
从分子、原子的尺度
多维度地观察微观世界
HEPS是进行科学实验的大科学装置
并不是网传的光刻机工厂


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该项目由
全国勘察设计大师、
国投集团首席科学家娄宇带队
中国电子院多个技术科研
和设计团队协同合作
从项目可研立项到项目落地
中国电子院攻克了多项技术和工艺难关
解决了项目不均匀沉降、微振动控制、
超长结构设计、光伏板设计、
精密温度控制、工艺循环冷却水系统、
超复杂工艺系统等七大技术难题
实现了重大技术突破
指标控制达到了国际先进水平

目前高能同步辐射光源配套工程已全面完工
向产生世界最“亮”的光又更近了一步

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△点击图片,深入了解北京高能同步辐射光源


中国电子院
持续助力“中国芯”
虽然HEPS不是光刻厂
但关于光刻厂的信息
之所以能在自媒体平台迅速刷屏
归根到底
还是源于大众对解决“卡脖子”难题的期待


而中国电子院也在
助力“中国芯”之路上持续发力
从建院之初
中国电子院便开启了中国“芯”的起步
近年来,中国电子院深耕细做半导体行业
承担了国内超过50%的存储芯片项目
为国家在电子信息领域
实现科技自立自强做出了重要贡献


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国家存储器基地

国内唯一本土企业主导的12英寸3D闪存生产项目

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中芯京城

国内规模最大的12英寸集成电路先进工艺生产项目

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广州粤芯

广东省第一座成功量产的12英寸集成电路芯片制造厂

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福建晋华

第一条由本土企业建设并运营的12英寸DRAM芯片生产线

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合肥晶合

国内第一座EPC模式新建的12英寸厂

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英诺赛科

国际领先8英寸硅基氮化镓芯片生产线

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厦门士兰微

国内第一条12英寸特色工艺IDM芯片制造

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西安奕斯伟

国内规模最大12英寸硅片生产线

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厦门通富微电

世界级绿色标杆集成电路封装测试基地

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德州仪器(成都)

全球模拟芯片龙头企业先进封装项目

当前,面对复杂、严峻的国际形势
行业企业自立自强迫在眉睫
为打造更具竞争力的先进电子制造工厂
中国电子院秉持着
在电子信息产业70年的经验和传承
以建设虚拟工厂为目标
进行全要素的数字化攻关
自主开发了核心算法和数字化技术
目前已推出
“先进电子制造数字孪生工厂解决方案1.0版”
致力于实现生产制造
“绿色、低碳、精益、高效”建设目标
为行业赋能

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△中国电子院首席技术官、党委委员杨光明介绍“先进电子制造数字孪生工厂解决方案1.0版”科技成果


今年,中国电子院还成立
松山湖先进半导体工程技术联合创新中心
借助该平台引才、引智
开展联合技术攻关
助力我国半导体行业解决“卡脖子”难题

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△电子院·松山湖先进半导体工程技术联合创新中心揭牌


使命在肩,初心如磐
未来,中国电子院
将持续瞄准国家重大战略需求
开展关键核心技术攻关
加快突破“卡脖子”难题
全力推动半导体国产化进程
为实现高水平科技自立自强
和高质量发展践行央企担当!

来源:中国电子院

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军衔等级:

  中将

注册:2009-8-7108
发表于 2023-9-19 09:48:05 |显示全部楼层
能从这寻求突破,未尝不是好事啊,只是清北这些人早没这定力了

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  少将

注册:2005-3-43493
发表于 2023-9-19 10:02:08 来自手机 |显示全部楼层
  理论到实践差了十万八万里。

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  上士

注册:2023-3-2991
发表于 2023-9-19 10:22:28 |显示全部楼层
真假不重要,沸腾过就行。谣谣领先,假话说一百遍就会有很多人相信。

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  列兵

注册:2023-8-152
发表于 2023-9-19 11:36:39 |显示全部楼层
这种是大型回旋加速器吧,回旋加速器做光刻机的方法貌似上世纪失败了。

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军衔等级:

  上士

注册:2008-3-322
发表于 2023-9-19 12:01:22 来自手机 |显示全部楼层
太鬼扯了

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军衔等级:

  中将

注册:2009-2-211325
发表于 2023-9-19 14:44:26 |显示全部楼层
之前本版多少人沸腾

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  大元帅

注册:2007-12-101066
发表于 2023-9-19 21:37:34 |显示全部楼层
下一代技术。。。。

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军衔等级:

  中校

注册:2019-6-8383
发表于 2023-9-20 03:32:04 来自手机 |显示全部楼层
最后一张图片是亮点,一般人不知道

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  四级军士长

注册:2014-2-9443
发表于 2023-9-20 09:37:11 |显示全部楼层
理论上是可以的,清北的论文据说已经在国外设备上验证过可行性,那也只是解决了EUV光源问题,比现在的光源功率更大,更纯一些。没有什么不可能,一旦被卡死,那就可能会上。不是说光加速通道就需要长100-150米,做出来不能像ASML拿出去卖,无法做到小型化。解决有无问题是可以的。

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军衔等级:

  中士

注册:2015-2-1526
发表于 2023-9-20 14:41:54 |显示全部楼层
我也觉得是可行的

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注册:2009-12-1041
发表于 2023-9-20 23:31:27 |显示全部楼层
提示: 作者被禁止或删除 内容自动屏蔽

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  上尉

注册:2014-9-613
发表于 2023-9-21 19:03:05 来自手机 |显示全部楼层
从图片宣传发布,无论是网络和朋友交谈,我都是说假的,因为多样光,难分离,光刻是必须纯色的单一的光,才能干涉成功刻画,单单强光,难道是太阳光聚焦不能吗??但是这个论调一直都是传,背后必须有群

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