日本TEL社长赴台积电赔罪！

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9月10日消息，日本TEL公司社长河合利树抵达中国台湾，密会台积电董事长魏哲家，疑为2nm泄密案“向台积电赔罪”！

据报道，2025年SEMICON Taiwan国际半导体展今日于台北南港展览馆一、二馆正式开幕，吸引全球产业目光。不过，外界关注的焦点之一，落在东京威力科创（TEL）社长兼执行长河合利树的缺席。

据了解，河合昨日下午缺席展会活动，转而前往新竹与台积电董事长暨总裁魏哲家进行闭门会晤，为先前爆发的2nm技术泄密事件亲自道歉，并提出后续善后对策。

据报导，TEL是全球半导体设备的主要供货商，台湾地区为其关键市场，台积电更是其重要客户。

知情人士透露，河合利树此行主要目的是向台积电表达歉意，针对TEL前陈姓工程师涉嫌泄露台积电2nm技术机密一事，亲自向魏哲家致歉，并提出公司如何善后的初步构想。由于双方为闭门会谈，具体内容尚不对外公开，目前仍待TEL方面进一步说明。

据之前报道，台积电 2nm 芯片技术外泄事件涉案 3 人被检方起诉，分别被要求判处14年、9年和7年徒刑。

涉案的主要嫌疑人陈姓男子曾任台积电工程师，熟悉公司严格的保密制度与供应商保密协议。离职后，他加入日本半导体设备龙头 TEL 公司，并利用旧同事关系，多次索取 2 纳米蚀刻站相关机密文件和数据，将其拍摄、复制，用于帮助 TEL 公司改进设备性能。国芯网